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Boro e Implantación de iones

Accesos rápidos: Diferencias, Similitudes, Coeficiente de Similitud Jaccard, Referencias.

Diferencia entre Boro e Implantación de iones

Boro vs. Implantación de iones

El boro es un elemento químico de la tabla periódica de los elementos que tiene el símbolo B y número atómico 5, su masa es de 10,811. La implantación de iones es un proceso propio de la ingeniería de materiales por el cual los iones de un material pueden ser implantados en otro sólido, cambiando por tanto las propiedades físicas de este último.

Similitudes entre Boro e Implantación de iones

Boro e Implantación de iones tienen 3 cosas en común (en Unionpedia): Arsénico, Silicio, Toxicidad.

Arsénico

El arsénico es un elemento químico de la tabla periódica que pertenece al grupo de los metaloides, también llamados semimetales; se puede encontrar de diversas formas aunque, raramente, se encuentra en estado sólido.

Arsénico y Boro · Arsénico e Implantación de iones · Ver más »

Silicio

El silicio (del latín: sílex) es un elemento químico metaloide, número atómico 14 y situado en el grupo 14 de la tabla periódica de los elementos de símbolo Si.

Boro y Silicio · Implantación de iones y Silicio · Ver más »

Toxicidad

La toxicidad es la capacidad de una sustancia química de producir efectos perjudiciales sobre un ser vivo y el ambiente que lo rodea, al entrar en contacto con él.

Boro y Toxicidad · Implantación de iones y Toxicidad · Ver más »

La lista de arriba responde a las siguientes preguntas

Comparación de Boro e Implantación de iones

Boro tiene 148 relaciones, mientras Implantación de iones tiene 28. Como tienen en común 3, el índice Jaccard es 1.70% = 3 / (148 + 28).

Referencias

En este artículo se encuentra la relación entre Boro e Implantación de iones. Si desea acceder a cada artículo del que se extrajo la información visite:

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