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Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno

Accesos rápidos: Diferencias, Similitudes, Coeficiente de Similitud Jaccard, Referencias.

Diferencia entre Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno

Deposición química de vapor vs. Disulfuro de molibdeno

La Deposición Química de Vapor o CVD (de sus siglas en inglés Chemical Vapor Deposition) es un proceso químico utilizado para producir productos de alta pureza y de alto rendimiento de materiales sólidos. El disulfuro de molibdeno es un compuesto químico inorgánico con la fórmula química MoS2.

Similitudes entre Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno

Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno tienen 5 cosas en común (en Unionpedia): Dopaje (semiconductores), Molibdeno, Níquel, Nitruro de titanio, Politetrafluoroetileno.

Dopaje (semiconductores)

En la producción de semiconductores, se le denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor (abreviadamente, SC) extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas.

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Molibdeno

El molibdeno es un elemento químico de número atómico 42 que se encuentra en el grupo 6 de la tabla periódica de los elementos y se simboliza como Mo.

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Níquel

El níquel es un elemento químico cuyo número atómico es 28 y su símbolo es Ni, situado en el grupo 10 de la tabla periódica de los elementos.

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Nitruro de titanio

El nitruro de titanio (conocido también como Tinita) es un material cerámico extremadamente duro (Dureza ~85 Rockwell C o dureza ~2500 Vickers o 24.5 gigapascales) usado frecuentemente como recubrimiento sobre componentes de aleaciones de titanio, acero, carburos y aluminio para mejorar las propiedades superficiales del sustrato.

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Politetrafluoroetileno

El politetrafluoroetileno (PTFE), más conocido como teflón, es un polímero similar al polietileno, en el que los átomos de hidrógeno han sido sustituidos por átomos de flúor.

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La lista de arriba responde a las siguientes preguntas

Comparación de Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno

Deposición química de vapor tiene 47 relaciones, mientras Disulfuro de molibdeno tiene 68. Como tienen en común 5, el índice Jaccard es 4.35% = 5 / (47 + 68).

Referencias

En este artículo se encuentra la relación entre Deposición química de vapor y Disulfuro de molibdeno. Si desea acceder a cada artículo del que se extrajo la información visite:

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